Ulvac超高真空溅射系统

产品简介

超高真空溅射系统主要用于溅射沉积Pd、Ti、Zr、Ta、Al、Cu、W、 NiFe、FeMn,、CoFeS等各种纳米级单层或多层纳米厚度膜（通常低于50nm)。

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设备特点

1.可做超薄薄膜

2.可做多层薄膜（有五个靶源）

主要技术指标

1.极限真空：1×10^-6 Pa.

2.膜厚: 几nm～100nm

溅射速率：2-4nm/min

薄膜均匀性与重复性：3英寸衬底均匀性±2 % ，重复性±2%

3.靶材尺寸：2英寸；5个靶位；1RF源，2DC源

4.基片尺寸：3英寸基片与破片

公司主要研发、制造和销售的检测仪器有：电压击穿试验仪、高压漏电起痕试验仪、耐电弧试验仪、铁电材料测试仪器、介电常数及介质损耗测试仪、表面及体积电阻率测试仪、压电材料测试仪器、热电材料测试仪器、绝缘材料电性能检测设备、高温管式炉\反射炉\气氛炉、高温电性能测试设备、EST静电检测仪器、硅橡胶\绝缘子行业测试设备、PCB\三防漆电子材料测试、电气薄膜电学检测仪器、高低压电气材料测试设备、电线电缆行业电学测试设备、高分子材料电学测试仪器、热分析仪器、电气安规检测仪器、半导体芯片类测试仪器等，可接定制仪器订单。